全国人民代表大会のサイトには、6月20日付、2020年度立法業務計画について公示されている。知的財産権関連では、特許法（専利法）と著作権法がその対象になっている。そのほか、電子データ保護法、行政処罰法、個人情報保護法など多数の法令改正が挙げられている。
他の情報ソースによると、6月28日から30日かけて開催される全人代常務委員会第20回会議で特許法改正第2回審議稿の審理が行われる予定で、意匠（国際意匠制度加盟、部分意匠の保護）、特許実施運用(公然許諾）の促進、特許開放規定及び特許紛争解決メカニズム関連が含まれる。
参照サイト：http://www.npc.gov.cn/npc/c30834/202006/b46fd4cbdbbb4b8faa9487da9e76e5f6.shtml
6月29日追記、28日の会議では、
部分意匠の導入が議論され、諸外国に準じた保護を入れる方向になった模様。いずれにしても、国際意匠制度との調整をすることになろう。
特許の奨励について、発明者や創作者に対する奨励と特許の開放に関し、公然使用許諾による収益分配或いは同等の通常実施権の付与など何らかの規定がされる模様。
医薬品の期間延長も導入になる模様。
法定賠償額では、特許と実案・意匠の価値の違いから、同様の規定が適用されることに異論が生じているようで、最低額の規定が削除されるかもしれない。
以上
参照サイト：http://www.cnipa.gov.cn/zscqgz/1149817.htm