【中国】2025年第一四半期特許商標登録等統計減少傾向（4月18日）

国家知識産権局（CNIPA)は、2025年第一四半期の知的財産権登録等の統計情報を公示した。詳細は以下の通りであるが、意匠を除き、すべて減少している。出願情報は、商標を除き近年積極的に公示しない方針のため明確でないが、発明特許は前年比▲21％を大きく減少、実用新案は毎年減少している。意匠特許はハーグ国際意匠の導入以降増加に転じている。なお、商標も▲15%の減少となっている。

参照サイト：https://www.cnipa.gov.cn/col/col61/index.html