【中国】2026年第一四半期特許商標登録等統計・増加に転じた(4月17日)

国家知識産権局(CNIPA)は、4月13日に2026年3月までの知的財産権登録などの統計情報を公示した。詳細は以下の通りであるが、昨年の久しぶりに大きく減少した発明特許の国内分が+8.9%増加し、外国分が▲12.1%減少したものの、全体で+7.4%と増加に転じた。実案は依然として減少傾向であるが、外国分が+22.4%と大きく回復した。意匠は引き続き増加傾向である。商標の登録件数は、前年同期が前年比▲15%減少したが、今年度は+8%の回復を示している。外国分は▲12.7%減少している。なお、商標の異議申立、却下再審が増加に転じたが、無効申立は減少傾向が続いている。

参照サイト:https://www.cnipa.gov.cn/col/col61/index.html